二氧化硅能成为主流消光剂,核心在于其多孔结构与高比表面积,可破坏光线规则反射并调控涂层光泽度。 生成工艺 工业上主要通过两种方式制备。一是气相法,以四氯化硅为原料,在高温火焰中水解生成纳米级气相二氧化硅,产品纯度高、分散性好。二是沉淀法,由硅酸钠与酸反应生成沉淀,经洗涤、干燥、粉碎后得到,成本更低,适合大规模生产。两种工艺均能精准控制二氧化硅的粒径与孔隙率,适配不同消光需求。 消光原理 二氧化硅粉末添加到涂层中后,会均匀分散形成微小粗糙面。光线照射时,无法在涂层表面形成